分光干涉式晶圓膜厚儀 SF-3

產(chǎn)品簡(jiǎn)介
●非接觸式、非破壞性光學(xué)式膜厚檢測(cè)
●采用分光干涉法實(shí)現(xiàn)高度檢測(cè)再現(xiàn)性
●可進(jìn)行高速的即時(shí)研磨檢測(cè)
●可穿越保護(hù)膜、觀景窗等中間層的檢測(cè)
●可對(duì)應(yīng)長(zhǎng)工作距離、且容易安裝于產(chǎn)線或者設(shè)備中
●體積小、省空間、設(shè)備安裝簡(jiǎn)易
●可對(duì)應(yīng)線上檢測(cè)的外部信號(hào)觸發(fā)需求
●采用最適shi合膜厚檢測(cè)的獨(dú)自解析演算法。(已取得專zhuan利)
●可自動(dòng)進(jìn)行膜厚分布制圖(選配項(xiàng)目)

產(chǎn)品型號(hào)：

更新時(shí)間：2025-01-23

廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家

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產(chǎn)品咨詢 18117546256

產(chǎn)品分類

PRODUCT CLASSIFICATION

光譜系統(tǒng)

顯微缺陷膜厚半導(dǎo)體晶圓缺陷檢測(cè)儀高光譜測(cè)試系統(tǒng) 瞬態(tài)吸收系統(tǒng) 太陽(yáng)能電池量子效率太陽(yáng)光模擬器IV系統(tǒng) 顯微光電流成像系統(tǒng) 探測(cè)器光響應(yīng)度系統(tǒng) 光譜變溫附件探針臺(tái) 拉曼SERS增強(qiáng)試劑顯微熒光系統(tǒng) 組合熒光系統(tǒng) 鏡頭透過率測(cè)試系統(tǒng) 漫反射率測(cè)試系統(tǒng) 反射、吸收率系統(tǒng) 成像亮度計(jì) 標(biāo)準(zhǔn)燈參考輻射定標(biāo) 電致發(fā)光系統(tǒng) 常規(guī)發(fā)射光譜系統(tǒng) 共聚焦拉曼光譜儀

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即時(shí)檢測(cè)

WAFER基板于研磨制程中的膜厚

玻璃基板(強(qiáng)酸環(huán)境中)于減薄制程中的厚度變化

規(guī)格式樣

	SF-3
膜厚測(cè)量范圍	0.1 μm ~ 1600 μm※1
膜厚精度	±0.1% 以下
重復(fù)精度	0.001% 以下
測(cè)量時(shí)間	10msec 以下
測(cè)量光源	半導(dǎo)體光源
測(cè)量口徑	Φ27μm※2
WD	3 mm ~ 200 mm
測(cè)量時(shí)間	10msec 以下

※1 隨光譜儀種類不同,厚度測(cè)量范圍不同
※2 最小Φ6μm

上海波銘科學(xué)儀器有限公司主要提供光譜光電集成系統(tǒng)、晶萃光學(xué)機(jī)械和光學(xué)平臺(tái)、激光器、Edmund 光學(xué)元件、Newport 產(chǎn)品、濱松光電探測(cè)器、卓立漢光熒光拉曼光譜儀、是德 Keysight 電學(xué)測(cè)試系統(tǒng)、大塚 Otsuka 膜厚儀、鑫圖科研級(jí)相機(jī)、Semilab 半導(dǎo)體測(cè)試設(shè)備及高低溫探針臺(tái)系統(tǒng)。經(jīng)過多年的發(fā)展，上海波銘科學(xué)儀器有限公司在市場(chǎng)上已取得了一定的地位。我們的產(chǎn)品和服務(wù)在行業(yè)內(nèi)具有較高的知zhi名度和美譽(yù)度，客戶遍布全國(guó)。我們將繼續(xù)努力，不斷提升市場(chǎng)地位和影響力。

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